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1、等離子清洗機(jī)
等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子清潔機(jī),或者等離子 表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清 洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的 第四態(tài),并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離 化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、 原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī) 就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、 涂覆等目的。
等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做 物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。 等離
2、子體的”活性"組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素 (亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組 分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài) 三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在, 如地球大 氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動 狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基) ; 離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保 持電中性狀態(tài)。
在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能
量的無序的等離子體,通過
3、等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面. 以達(dá)到清
洗目的.
優(yōu)勢
一、 清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理 即可送往下一道工序??梢蕴岣哒麄€(gè)工藝流水線的處理效率;
二、 等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害, 同時(shí)
也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題; 三、避免使用三氯乙 烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清 洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越 發(fā)顯出它的重要性;
四、 采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線 不同。等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼 和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)
4、,因此不需要過多考慮被清洗物體的形 狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至 更好;
五、 使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè) 清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);
六、 等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很 容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用 價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工 藝;
七、 使用等離子清洗,避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲、排放等處 理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;
八、 等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材 質(zhì),無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚 氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以 使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。 而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;
九、 在完成清洗去污的同時(shí),還可以改善材料本身的表面性能。 如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非 常重要的。