高分子材料測試技術(shù)系統(tǒng)介紹第四章上.ppt
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高分子材料測試技術(shù)系統(tǒng)介紹第四章上.ppt
4.1 概述 核磁共振( NMR) 波譜是 吸收光譜 的一種。在 NMR中,是用頻率為兆赫數(shù) 量級的電磁波,照射置于強磁場下的原 子核,使其能級發(fā)生分裂。當吸收的能 量與原子核能級差相等時,就會發(fā)生核 能級的躍遷,從而產(chǎn)生一種吸收光譜 核磁共振光譜。 第四章 核磁共振波譜 美國科學家柏塞爾 (E.M.Purcell)和瑞士科學家 布洛赫 (E.Bloch)于 1945年 12月和 1946年 1月分 別獨立發(fā)現(xiàn)的。 共享了 1952年諾貝爾物理學獎。 核磁共振譜常按測定的核分類,測定氫核的稱 為氫譜 (1HNMR); 測定碳 -13的稱為碳譜 ( 13CNMR)。 核磁共振譜不僅給出基團的種 類 ,而且能提供基團在分子中的位置。 4.2 核磁共振的基本原理 1 原子核的自旋 自旋量子數(shù) I是描述原子核自旋運動 的量子數(shù),自旋量子數(shù)可以為整數(shù)、半 整數(shù)或零,自旋量子數(shù)不同的核,其核 電荷分布形狀也不同。 質(zhì)量數(shù) ( A) 原子序數(shù) ( Z) 自旋量子數(shù)( I) 奇 數(shù) 奇數(shù) 或 偶數(shù) 半整數(shù) n + 1/2 n = 0,1,2, 奇 數(shù) 整 數(shù) 偶 數(shù) 偶 數(shù) 0 ( 1) I = 1/2 原子核 1H; 13C; 19F 核電荷呈球形分布,它們的核磁共振現(xiàn)象較為簡單,是核磁 共振研究的主要對象。 ( 2) I=3/2: 11B, 35Cl, 79Br I=5/2: 17O, 127I 這類原子核的核電荷分布不均勻,譜線寬。 2 自旋角動量 自旋角動量: I: 自旋量子數(shù); h: 普朗克常數(shù); )1(2 IIhP 該式說明:自旋角動量是量子化的,而不是連續(xù)的。 I 0的核,其自旋角動量 P 0, I0的核,其自旋角動量 0。 3 原子核的磁矩 P (e/2M) g )1(2 IIhP M 質(zhì)子的質(zhì)量 e 質(zhì)子的電量 g 比例常數(shù),稱為 Lande因子,是表示各種不 同和的特征常數(shù) 核 磁 矩 : P N g 2/h ge/2M N eh/( 2 2M) 核磁矩的最小單位: 磁旋比 : 是核磁矩與角動量的比值,是與自旋核性質(zhì)有關(guān) 的常數(shù)。 4 核磁共振條件 在磁場中,自轉(zhuǎn)核的赤道平面因受到力矩作用而發(fā)生偏轉(zhuǎn), 其結(jié)果是核磁矩繞著磁場方向轉(zhuǎn)動,這就稱為拉莫爾進動。 z H 0 進動軌道 進動角 進動角 核磁矩 在靜磁場中,自旋量子數(shù) 為 I的原子核,其自旋 角動量 在 Z軸上的投影只能取一些不連續(xù)的數(shù)值: 2 h mP Z m為磁量子數(shù), m = I, I-1, , I。 2 h mP zz 0HE z 原子核磁矩在 Z軸上的投影 磁矩和磁場相互作用能 則有 02 mH h E 02 H hE 02 H hmE 原子核不同能 級間的能量差 只有 m= 1的躍遷 才能進行,則 對于氫核,能級差: E= H0 = ( h/2 )H0( 磁矩) 產(chǎn)生共振需吸收的能量: E= h 0 所以發(fā)生核磁共振時滿足下式 : E= H0 = h 0 得到: 0= H0 / (2 ) 共振條件: 0 = H0 / (2 ) ( 1)對于同一種核 ,磁旋比 為定值, H0變,射頻頻率 變。 ( 2)不同原子核,磁旋比 不同,產(chǎn)生共振的條件不同,需 要的磁場強度 H0和射頻頻率 不同。 ( 3) 固定 H0 ,改變 (掃頻) ,不同原子核在不同頻率處 發(fā)生共振(圖)。也可固定 ,改變 H0 (掃場)。掃場方式 應用較多。 氫核( 1H): H0= 14092 T 共振頻率 60 MHz 23050 T 共振頻率 100 MHz 磁場強度 H0的單位: T( 特斯拉) 1 連續(xù)波核磁共振儀( CW NMR儀) NMR儀示意圖 4.3 核磁共振波譜儀 一 裝置 2 脈沖傅立葉變換 NMR譜儀( PFT NMR) 這種儀器把 cw法中對樣品進行的單頻連續(xù)掃場 (或掃頻 )改成對樣品進行寬頻帶 (包含被測譜范圍以內(nèi)全部的頻率 ) 強脈沖照射。 傅立葉變換核磁共振波譜儀方塊示意圖 PFT NMR儀主要有以下兩個優(yōu)點: 1)提高了儀器的靈敏度。 2)測量速度快。 二 實驗技術(shù) 1) 對樣品的要求 2) 溶劑 4.4 NMR譜提供的結(jié)構(gòu)信息 一 化學位移 H NMR譜中,處在不同基團上的質(zhì)子, 它們的化學環(huán)境不同,產(chǎn)生信號的位置(即共 振頻率)不同。表示這種不同質(zhì)子的信號共振 位置差別的物理量,稱之為化學位移。 在 1950年, Proctor等人研究發(fā)現(xiàn):質(zhì)子的共振頻率與其結(jié) 構(gòu)(化學環(huán)境)有關(guān)。在高分辨率下,吸收峰產(chǎn)生化學位移 和裂分,如右圖所示。 由有機化合物的核磁共振圖,可獲得質(zhì)子所處化學環(huán)境的 信息,進一步確定化合物結(jié)構(gòu)。 理想化的、裸露的氫核;滿足共振條件: 0 = H0 / (2 ) 產(chǎn)生單一的吸收峰; 實際上,氫核受周圍不斷運動著的電子影響。在外磁場作 用下,運動著的電子產(chǎn)生相對于外磁場方向的感應磁場,起 到屏蔽作用,使氫核實際受到的外磁場作用減?。? H=( 1- ) H0 : 屏蔽常數(shù)。 越大,屏蔽效應越大。 0 = / (2 ) ( 1- ) H0 由于屏蔽作用的存在,氫核產(chǎn)生共振需要更大的外磁場強 度(相對于裸露的氫核),來抵消屏蔽影響。 1 化學位移的產(chǎn)生電子的屏蔽效應 在有機化合物中,各種 氫核 周圍的電子云密度不 同(結(jié)構(gòu)中不同位置)共 振頻率有差異,即引起共 振吸收峰的位移,這種現(xiàn) 象稱為化學位移。 1) 位移的標準 相對標準:四甲基硅烷 Si(CH 3)4 ( TMS)( 內(nèi)標) 位移常數(shù) TMS=0 2) 為什么用 TMS作為基準 ? (1) 12個氫處于完全相同的化學環(huán)境,只產(chǎn)生一個尖峰; (2)屏蔽強烈,位移最大。與有機化合物中的質(zhì)子峰不重迭; (3)化學惰性;易溶于有機溶劑;沸點低,易回收。 (4) TMS沸點低,易回收或除去,易溶于有機溶劑,因此, 使用方便。 2 化學位移標準物質(zhì)和化學位移的表示方法 3) 化學位移的表示方法 用共振頻率差( ) 表示 用 值表示 用 值表示 3 影響化學位移的因 素 化學位移的大小決定于屏蔽常數(shù) 的大小。 取代基的誘導效應核共軛效應 1. 電負性 由于誘導效應,取代基電負性越強,與取代基連 接于同一碳原子上的氫的共振峰越移向低場,反 之亦然。 以甲基的衍生物為例 : 化合物 CH3F CH3OCH3 CH3Cl CH3Br ppm 4.26 3.24 3.05 2.7 CH3I CH3 CH3 CH4 TMS CH3Li 2.16 0.88 0.2 0 -1.95 譜圖實例 1-CH3CH2I -CH3 =1.62.0 高場; -CH2I =2.7 3.5 低場。 譜圖實例 2-CH3OH -O-H, -C-H, 4.2 3.3 低場 高場 討論: 1). 常見有機官能團的電負性均大于氫原子的電 負性,因此有 CH CH2 CH3 2). 多取代有加和性 3). 取代基的誘導效應沿著碳聯(lián)延伸方向減弱 碳原子上的氫位移較明顯; 碳原子上的氫有一定的位移; 位以后的碳原子上的氫位移很小。 2. 共軛效應 氮、氧等雜原子可與雙鍵、苯環(huán)共軛。 雙鍵或苯環(huán)上的氫被推電子基取代:由于 p-共 軛 ,使苯環(huán)電子云密度增大 , 值向高場移動 雙鍵或苯環(huán)上的氫被吸電子基取代:由于 p-共 軛或 -共軛 ,使苯環(huán)電子云密度降低 , 值向低 場移動 共軛效應實例 C C C C H H H H CC H H H CC H H H .O. . . O H 3 C H 3 ( - 1 . 4 3 ) ( - 1 . 2 9 ) ( + 1 . 1 0 ) ( 0 . 0 0 ) ( + 0 . 2 1 ) ( + 0 . 8 1 ) ( + 0 . 5 9 ) - p - 各向異性效應 某些化學鍵和基團可對空間不同空間位置上的質(zhì)子施 加不同的影響,即它們的屏蔽作用是有 方向性 的。 + 屏蔽作用; -去屏蔽作用 C C+ - - + C C + + - - C C + + - -C O + + -- * 磁各向異性產(chǎn)生的屏蔽作用通過空間傳遞,是 遠程 的。 A 三鍵 1)相互垂直的兩個 鍵 軌道電子以鍵軸為中心 呈圓柱體對稱分布。 3)環(huán)形電流產(chǎn)生與三鍵平行但方向與外加磁場相反 的感應磁場。 4)因此,三鍵的兩端位于屏蔽區(qū),上、下方為去屏 蔽區(qū), 值比烯氫小。一般 為 2 3ppm。 2)在外加磁場作用下, 電子云繞 鍵產(chǎn)生環(huán)電流 。 三鍵實例丙炔 B 雙鍵 1) C=O, C=C<的屏蔽作用與苯環(huán)類似。在其平面的上、 下方各有一個錐形屏蔽區(qū),其它區(qū)域為去屏蔽區(qū)。 2) 雙鍵節(jié)面上的質(zhì)子處于去屏蔽區(qū),共振峰出現(xiàn) 在低場。 3) 上的質(zhì)子除受到磁各向異性影響外, 還受到羰基氧原子的電負性引起的去屏蔽效應, 使得 7.8 10.5ppm C C + + - -C O + + -- C=C雙鍵 實例 2丙稀 C 芳環(huán) 在苯環(huán)的外周區(qū)域感應磁場的方向 與外加磁場的方向相同(順磁屏蔽 ),苯環(huán)質(zhì)子處于此去屏蔽區(qū),其 所受磁場強度為外加磁場和感應磁 場之和, 值向低場移動。 7.2ppm,而乙烯的 值為 5.23ppm 芳環(huán)實例異丙基苯 D 單鍵的各向異性效應 氫鍵的締合作用降低了質(zhì)子周圍的電子云密度 , 去屏蔽 值向低場移動 。例如,酚類,羧酸的 值在 10ppm以 上; 分子內(nèi) 氫鍵,質(zhì)子的 值與濃度無關(guān); 分子間 氫鍵,質(zhì)子的 值與濃度有關(guān) ,濃度大,締合程 度大, 增加; 羥基、羧基等基團的 變化范圍大; 可通過提高溫度、稀釋試樣等方法檢驗是否存在氫鍵。 氫鍵效應 1 0 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 C 3CH C2CH2 C-CH3 環(huán)烷烴 0.2 1.5 CH2Ar CH2NR2 CH2S CCH CH2C=O CH2=CH-CH3 1.7 3 CH2F CH2Cl CH2Br CH2I CH2O CH2NO2 2 4.7 0.5(1) 5.5 6 8.5 10.5 12 CHCl3 (7.27) 4.6 5.9 9 10 OH NH2 NH CR2=CH-R RCOOH RCHO H R 常用溶劑質(zhì)子 的化學位移值 D 常見結(jié)構(gòu)單元化學位移范圍 碳原子的雜化狀態(tài) 在 C-H鍵的成鍵軌道中, S成分愈高,則電子云 愈靠近碳原子核,質(zhì)子的 增大。 例如,與 H相連的碳原子從 C-C單鍵的 SP3到 C=C 雙鍵的 SP2,S電子的成分從 25增加到 33,成 鍵電子云更靠近碳原子,對相連的 H原子有去屏 蔽作用,化學位移增大向低場方向移動。 溶劑的影響 二 自旋自旋偶合與偶合常數(shù) 自旋自旋偶合 C C Ha Hb Hb 偶合常數(shù) 同碳偶合 鄰碳偶合 遠程偶合 三 積分面積 CH3CH2OH的 NMR譜圖 某化合物可能有下述三種結(jié)構(gòu),根據(jù)下圖其 NMR譜,確定到底為哪種結(jié)構(gòu)。 課堂作業(yè): (注明班級、學號) 1 取代基團的電負性對 1H的化學位移的 影響如何? 2在下列乙酸乙酯中,三種類型的 H核 在發(fā)生 NMR時,共振峰的位置是否相 同 ?應當怎樣排列 ?